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Siliciumtetrachlorid ist ein Produkt mit einer Reinheit von mehr als 99,99 %.
Die größte Menge an Siliciumtetrachlorid in ultrareiner Form wird bei der Herstellung von Polysilicium sowie für die chemische Gasphasenabscheidung epitaktischer Schichten aus Silicium oder Siliciumcarbid in der Halbleiterindustrie oder in der Elektronik verwendet. Nach der Reinigung auf eine Qualität von >6N ist Siliciumtetrachlorid ein Vorläufer von Polysilicium für Photovoltaikanlagen oder Halbleiteranwendungen. Siliciumtetrachlorid ist ein hervorragender gasförmiger Vorläufer bei der Herstellung von Siliciumschichten. Der dominierende Weg während der Abscheidung ist (a) die Chemisorption von *SiCl2 an der Siliciumoberfläche und die Desorption von Chlorwasserstoff von der Siliciumoberfläche: SiHCl3 → HCl + *SiCl2 und (b) die Reduktion von *SiCl2 durch Wasserstoff: *SiCl2 + H2 → Si + 2HCl. Ultrareines Siliciumtetrachlorid wird auch zur Herstellung epitaktischer Schichten aus Siliciumcarbid verwendet.
Das Produkt Ultračistý chlorid křemičitý (ultračistý trichlorsilan) ist in verschiedenen Gebindegrößen je nach Kundenbedarf erhältlich — von Probemengen bis zu Großlieferungen. Standardmäßig liefern wir in IBC-Containern, Fässern oder Säcken. Für Informationen zu Mindestbestellmengen, Lagerverfügbarkeit und Lieferbedingungen kontaktieren Sie uns bitte.
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